NEB代理 , DNA修饰酶与克隆技术 , 克隆质粒 & DNA,ΦX174 RF II DNA#N3022L 产品资料 – DNA修饰酶与克隆技术 – 克隆质粒 & DNA ΦX174 RF II DNA #N3022L 150 μg 特性 • 常用的 DNA 底物 • 双链切刻环状 ΦX174 浓度 1,000 μg/ml 分子量/长度 3.5 x 106 Da/5,386 bp
